真空镀膜和光学镀膜使用方法和常用材料分别有什么不同？
一、概念的区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
二、原理的区别
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。
随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。
三、方法和材料的区别
1、真空镀膜的方法材料：
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
2、光学镀膜方法材料
(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。
真空镀膜是个统称，光学镀膜是其中一种
膜厚控制仪主要用于镀膜时，监测真空环境内，被镀材料表面膜层沉积的厚度
(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜.
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜.
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程.
(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点.
2、常见的光学镀膜材料：
(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点.
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好.纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点.按使用要求分为紫外、红外及可见光用.
(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点.
光学真空镀膜工艺流程
答：玻璃镀膜就是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变玻璃光学性能。玻璃镀膜的方法分为四类：化学沉积法、热蒸发镀、机械(包括喷涂和浸渍两种方法)以及目前比较先进的磁控贱射镀膜。这些技术的原理和设备都不一样，也不能互换。镀膜玻璃生产方法都是在玻璃表面涂以金、银、铜、铝、镍、铁...
求镜片镀膜技术
答：解决的方法是在减反射膜层上再镀一层具有抗油污和抗水性能的顶膜,而且这层膜必须非常薄,以使其不会改变减反射膜的光学性能。 (2)工艺 抗污膜的材料以氟化物为主,有二种加工方法,一种是浸泡法,一种是真空镀膜,而最常见的方法是真空镀膜。而最常用的方法是真空镀膜。当减反射膜层完成后,可使用蒸发工艺将...
真空镀膜原理是什么?
答：真空镀膜原理：1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括...
真空镀铝膜
答：通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，一般镀 铝层厚度在 25～500nm，镀铝薄膜的宽度为 800mm～2000mm。2.蒸镀方法。在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。（1）直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而...
物理蒸镀法(PVD)的各种镀膜方法
答：在精密制造和光学领域，物理蒸镀法（PVD）犹如魔术师的手法，通过在真空环境下施展其独特的镀膜艺术。PVD主要分为蒸发、溅射和分子线沉积三大类别，每一种方法都有其独特的魅力和适用场景。蒸发系，以真空蒸镀（V.D.）为代表，它在低至10-2到10-4帕斯卡的真空环境中运作，能够生成平滑的膜层。然而，...
真空电镀工艺
答：有人知道电镀UV水镀和真空镀有什么区别？电镀工艺是常见的表面处理方法，电镀UV水镀和真空镀之间的区别如下：1.水电镀：又称湿法电镀，顾名思义与水及水溶液有关，电化学反应原理，是化学过程。由于大量使用水/水溶液，污染大。2.UV镀膜：使用UV涂料，在真空或超低压状态，利用电场的作用，使UV涂料迁移...
真空镀膜机是干什么用的
答：真空镀膜机 主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种 适用范围：1．建筑五金：卫浴五金（如水龙头）．门锁．门拉手．卫浴、五金合叶、家具等。2．制表业：可用于表壳．表带的镀膜、...
真空镀膜与光学镀膜一样吗
答：如果只是就膜厚仪测试来讲的话，真空镀膜和光学镀膜的区别就是：1、真空镀膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了；2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。最早的是光控测试，现在一般用晶控（晶振片）使用...
请教如何做好光学仪器的防雾防锈
答：5 提高光学玻璃表面的化学稳定性，利用化学镀膜或真空镀膜方法，在玻璃表面镀一层憎水膜，以提高玻璃的化学稳定性，增强玻璃的抗腐蚀能力，减少起雾，为了减轻水性雾对观察的影响，也可采用亲水材料，镀上一层透明的具有一定的物理性能伪亲水膜，使水雾能全部散开，均匀的分散在膜层中，不影响观察，当大气...
导弹和军用望远镜为什么必须在镜头上镀增透膜?
答：四、常用光学镀膜的方式 常用光学薄膜的的方式有两种；真空镀膜、涂镀（也称为化学镀膜）。1、真空镀膜是在真空度达到4X10-3Pa. 温度达到300℃下，镀上单层（氟化镁）或多层（二氧化硅，三氧化二铝，氧化锆，氟化镁），一般宽带膜为三层或四层膜。其特点是强度高，牢固性好，透过率高。2、涂镀多用于...
